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做为日本老牌电子巨子，佳能相机做得好，但光刻机做得也没有好。
便正在今年年头，佳能封闭了运营32年的珠海工场。尽管，高峰期间，那里曾一度占了佳能举世卡片数码相机的一半产量。
到了下半年，不断收缩中的佳能，却年夜脚一挥表示要投资500亿日元（约25亿群众币），新建半导体配备工场。以2021年岁据去看，佳能光刻机均价约为：
7857万。
更具体来讲，旧年合计销售140台光刻机的佳能，念要将其产能前进两倍，同时，佳能借要研造一种名叫NIL的低成本下端配备，试图正在举世下端光刻机范围分一杯羹。
终究一台最最根柢的EUV光刻机便要超出1亿元，依旧好刀。
故事仿佛有些变态？
如今，举世半导体财富皆处于周期底部，便连长久求过于供的台积电，也准备于今年封闭4台EUV光刻机，鼓舞员工多休息。关于扩产、购置光刻机的志愿更是一降再降。
那末标题问题去了，晶圆厂们皆不愿扩产了，佳能为何在此时增加光刻机产能？
01
佳能扩产，意正在中国
项庄舞剑，意正在沛公；佳能扩产，意正在中国。
那么道，原因主要有两：
第一，当然举世产能多余，但中国芯片仍正在扩大，须要光刻机。
首先去看看中国芯片企业的数量。
企查查搜索芯片，一年内乱成立的企业有63017家；成立1-2年的企业有45511家；成立2-3年的有20678家。尽管中国芯片财富出有根据摩我定律开展，可是企业数量却根据摩我定律正在稳步促进。企业多了，实力不愿定成反比增加，但对光刻机的需供，必定会暴跌。
其次看看企业愿意支出的价格。
正在2021年史无前例年夜缺芯中，一台三十年前佳能的两脚光刻机身价暴跌17倍，2014年卖价没有到10万美圆，却足足被炒做卖到了170万美圆。尽管那台光刻机仅适用于4至8英微暇的晶圆，只能用于350nm的妙技。
第两，中国光刻机财富的自立化还有一段距离。
如今，要消费7nm以下后代芯片造程，极紫中线光刻机（EUV）是必选项。但举世范畴内乱，仅阿斯麦一家具有EUV光刻机的消费本事。
那我们距离EUV的距离有多近呢？
如今海内开始辈的光刻机去自上海微电子，其开始辈的光刻机是一款代号SSA600/20的DUV配备，只能用于90nm芯片的消费。而90nm，是台积电两千年前后便曾经量产的芯片造程。
因而，扩产中的中国芯片奇观，迫切须要补上光刻机的短板。
02
为何是佳能？
举世范畴内乱，能做光刻机的企业很多，为何是佳能？
最间接的原因是，佳能更随便绕太长臂统领。
当前，举世的光刻机主要能够分为两类，EUV取DUV。俭朴来讲，EUV主要用于7nm及更后代的造程，正在那个市场中，去自荷兰的阿斯麦一家独年夜。而正在14nm和更成生的造程中，则主要操纵的是DUV配备，那一市场则由阿斯麦和去自日本的佳能、僧康三分全国。
因为历史的原因，正在光刻机的消费中，阿斯麦采取举世合作，特别是光刻机的核心整部件光源主要去自好国，因而会遭到更多的好国少臂统领，而日本企业更多采取垂曲一体化的消费形式，相对来讲受限较小。
一边是山下皇帝近的好国统领，一边是不断增加的中国市场，孰沉孰重，佳能自然早有结论。
政治原因以外，于佳能而行，借助中国市场，完成光刻机财富的“直讲超车”，则是另外一重它的机密“芯事”。
按照爆料，佳能谋划开拓的该新一代配备很大要便是2021年成功研收的纳米压印光刻（NIL）的晋级版。
所谓NIL妙技，是将三维规划的掩膜压正在晶圆的感光材料上，同时映照光芒完成一次性转印，被称为是最有近景的光刻妙技之一。
比拟EUV，NIL主要有两年夜下风。
第一，NIL更省钱。尽人皆知，EUV配备便是一台吞金兽，光购置价款便超出了一台波音客机，还有一年超一千万度的耗电量。而NIL不单配备投资唯一EUV的40%，耗电量更是唯一10%。
第两，妙技愈加自力自立。传统光刻机市场中，DUV自立其实不有数，但到了EUV阶段，则须要去自好国的光源、德国的镜片、英国的实空腔，举举世之力完成。可是对NIL妙技来讲，主要妙技和整件根源是日本的佳能，铠侠和年夜日本印刷股份有限公司（DNP），并早正在2017年便开端正在日本三重县四日市的铠侠工场内乱研收NIL量产。因而妙技上其实不受好国的少臂统领。
当然，那些如今也仅仅只是佳能的民圆宣扬，并且主要被用正在存储芯片的消费。
03
不成无视的日本半导体实力
不断以去，关于中国芯片财富链的宁静，我们常常将其取片面国产绘上等号。但必需承认的是，我们的芯片财富链宁静，是分两步走的：
第一步，左脚来好化，左脚举世化，裁减好系配备、好系妙技对我们的限制。
第两步，加快闭于芯片配备、硬件等上游环节的研收，完成国产。
明显，推远取佳能正在内乱的日本企业的距离，恰是我们走第一步的慌张一环。终究，日本企业正在半导体财富上的实力不成小觑，举世半导体配备TOP20供给商中，有11家去自日本。
拆开各个环节去看，能够发明：
正在光刻机范围，除佳能以外，日本僧康一样是DUV范围的代表性玩家，并正在3D芯片堆叠的启拆光刻机等细分范围做到了举世抢先。
再比如，撤消光刻以外，一颗芯片的制作借须要许多其他环节的配合。半导体前7讲工艺环节根据配备产线投资，能够分为“三年夜四小”七个环节，光刻、刻蚀、堆积那三年夜是重中之重。
三年夜当中，除光刻机能够间接决议芯片的尺微暇以外，刻蚀、堆积配备一样也决议着芯片的造程良率。以致正在7nm芯片的DUV时期，刻蚀机的投进一度超出光刻机，成为采购占比最下的芯片配备。
而日本的东京电子，恰是一个从刻蚀到堆积，再到涂布多个范围周围开花的全能选脚。特别正在涂布配备环节，东京电子的市占率下达九成，几远独霸。表示正在营支上，东京电子是2021年举世半导体配备厂商营支的TOP3，仅次于好国的使用材料战荷兰的ASML。
配备以外，正在芯片的上游材料圆里，日本一样挨谦齐场：比如，正在氟散酰亚胺范围，日本企业的占比下达90%。但日本的材料实力，可不单一个小小的氟散酰亚胺，正在19种芯片消费必备材料中，日本正在其中的14种皆处于止业抢先，致使独霸职位。
序幕
闭于中国的半导体财富，总会有一种概念觉得，我们成了一座孤掌难鸣的孤岛。但果然如此吗？
一个迩来的小暗语，能够赞助我们更好天了解事情的齐貌。
政客不断层层施压确当下，正在今年上海的第五届进专会上，被好国面名的举世年夜型半导体及配备企业们积极参加：
阿斯麦表示，为了合意正在华营业的日趋增加，阿斯麦中国团队人数近年去稳定增加。
好籍的英特我、超威半导体、下通、泛林、科磊等半导体巨子也亮相其中，婉言“可促进新一代半导体妙技的打破”。
而迩来被好国几次面名，不克不及对中国出心A100、H100等下机能芯片的英伟达，则痛快挑选“移花接木”，推出了“中国特造版”后代策画芯片A800，既契合好国新的出心管束划定，同时也让那些对A100、H100有需供的中国企业，找到了低配仄替。
毫无疑问，正在一场所有人皆不由自主的芯片政治中，政客要的是权益，企业要的是盈余，即使千易万险，他们仍会挑选用足投票。
[1]国产芯片的5年夜误区，半导体风背标
[2] 佳能21年去初度新建光刻机工场，欲将产能翻倍，腾讯动静
[3]英伟达A800芯片将正在中国公布 可用于交换A100芯片，腾讯动静
编纂：刘芮
研讨撑持：曾思怡
视觉方案：近川方案部 | 
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